| Título : |
Growth and Transport in Nanostructured Materials : Reactive Transport in PVD, CVD, and ALD |
| Tipo de documento: |
documento electrónico |
| Autores: |
Yanguas-Gil, Angel, Autor |
| Mención de edición: |
1 ed. |
| Editorial: |
[s.l.] : Springer |
| Fecha de publicación: |
2017 |
| Número de páginas: |
XI, 128 p. 57 ilustraciones, 20 ilustraciones en color. |
| ISBN/ISSN/DL: |
978-3-319-24672-7 |
| Nota general: |
Libro disponible en la plataforma SpringerLink. Descarga y lectura en formatos PDF, HTML y ePub. Descarga completa o por capítulos. |
| Palabras clave: |
Superficie e interfaz y película delgada Nanoquímica Almacenamiento de energía mecánica y térmica Superficies (Tecnología) Peliculas delgadas Superficies (Física) Almacen de energia Semiconductor |
| Índice Dewey: |
620.44 |
| Resumen: |
Este libro abordará la aplicación de métodos de película delgada en fase gaseosa, incluidas técnicas como evaporación, pulverización catódica, CVD y ALD para la síntesis de materiales en materiales nanoestructurados y de alta relación de aspecto y área superficial alta. Hemos optado por presentar estos temas y los diferentes campos de aplicación desde una perspectiva cronológica: comenzamos con los primeros conceptos de cobertura de pasos y más tarde de conformidad en la fabricación de semiconductores, y cómo más adelante el rango de aplicación se diversificó para incluir otros como el almacenamiento de energía. , catálisis y, más ampliamente, síntesis de nanomateriales. El libro describirá las descripciones balísticas y continuas del transporte de gas en materiales nanoestructurados y luego pasará a incorporar el impacto de la interacción precursor-superficie. Finalmente concluiremos abordando los temas de la evolución de la forma de las características y la conexión entre las escalas nano y de reactor y presentaremos brevemente diferentes algoritmos avanzados que pueden usarse para calcular de manera efectiva el transporte de partículas, en algunos casos tomando prestado de otras disciplinas como la transferencia de calor radiativo. El libro reúne en un solo lugar información dispersa a lo largo de treinta años de investigación científica, incluidos los resultados más recientes en el campo de la Deposición de Capas Atómicas. Además de una descripción matemática de los fundamentos del crecimiento de películas delgadas en materiales nanoestructurados, incluye expresiones analíticas y gráficos que pueden usarse para predecir el crecimiento utilizando métodos de síntesis en fase gaseosa en una serie de aproximaciones ideales. El enfoque en los aspectos fundamentales sobre procesos particulares ampliará el atractivo y la vida útil de este libro. El lector de este libro obtendrá una comprensión profunda del recubrimiento de materiales nanoestructurados y de alta superficie utilizando métodos de deposición de película delgada en fase gaseosa, incluidas las limitaciones de cada técnica. Aquellos que vengan del lado teórico obtendrán el conocimiento necesario para modelar el proceso de crecimiento, mientras que aquellos lectores más interesados en el desarrollo del proceso obtendrán la comprensión teórica que será útil para la optimización del proceso. |
| Nota de contenido: |
Introduction -- Fundamentals of Gas Phase Transport on Nanostructured Materials -- Modeling Thin Film Growth on Nanostructured Materials -- Advanced Concepts. |
| En línea: |
https://link-springer-com.biblioproxy.umanizales.edu.co/referencework/10.1007/97 [...] |
| Link: |
https://biblioteca.umanizales.edu.co/ils/opac_css/index.php?lvl=notice_display&i |
Growth and Transport in Nanostructured Materials : Reactive Transport in PVD, CVD, and ALD [documento electrónico] / Yanguas-Gil, Angel, Autor . - 1 ed. . - [s.l.] : Springer, 2017 . - XI, 128 p. 57 ilustraciones, 20 ilustraciones en color. ISBN : 978-3-319-24672-7 Libro disponible en la plataforma SpringerLink. Descarga y lectura en formatos PDF, HTML y ePub. Descarga completa o por capítulos.
| Palabras clave: |
Superficie e interfaz y película delgada Nanoquímica Almacenamiento de energía mecánica y térmica Superficies (Tecnología) Peliculas delgadas Superficies (Física) Almacen de energia Semiconductor |
| Índice Dewey: |
620.44 |
| Resumen: |
Este libro abordará la aplicación de métodos de película delgada en fase gaseosa, incluidas técnicas como evaporación, pulverización catódica, CVD y ALD para la síntesis de materiales en materiales nanoestructurados y de alta relación de aspecto y área superficial alta. Hemos optado por presentar estos temas y los diferentes campos de aplicación desde una perspectiva cronológica: comenzamos con los primeros conceptos de cobertura de pasos y más tarde de conformidad en la fabricación de semiconductores, y cómo más adelante el rango de aplicación se diversificó para incluir otros como el almacenamiento de energía. , catálisis y, más ampliamente, síntesis de nanomateriales. El libro describirá las descripciones balísticas y continuas del transporte de gas en materiales nanoestructurados y luego pasará a incorporar el impacto de la interacción precursor-superficie. Finalmente concluiremos abordando los temas de la evolución de la forma de las características y la conexión entre las escalas nano y de reactor y presentaremos brevemente diferentes algoritmos avanzados que pueden usarse para calcular de manera efectiva el transporte de partículas, en algunos casos tomando prestado de otras disciplinas como la transferencia de calor radiativo. El libro reúne en un solo lugar información dispersa a lo largo de treinta años de investigación científica, incluidos los resultados más recientes en el campo de la Deposición de Capas Atómicas. Además de una descripción matemática de los fundamentos del crecimiento de películas delgadas en materiales nanoestructurados, incluye expresiones analíticas y gráficos que pueden usarse para predecir el crecimiento utilizando métodos de síntesis en fase gaseosa en una serie de aproximaciones ideales. El enfoque en los aspectos fundamentales sobre procesos particulares ampliará el atractivo y la vida útil de este libro. El lector de este libro obtendrá una comprensión profunda del recubrimiento de materiales nanoestructurados y de alta superficie utilizando métodos de deposición de película delgada en fase gaseosa, incluidas las limitaciones de cada técnica. Aquellos que vengan del lado teórico obtendrán el conocimiento necesario para modelar el proceso de crecimiento, mientras que aquellos lectores más interesados en el desarrollo del proceso obtendrán la comprensión teórica que será útil para la optimización del proceso. |
| Nota de contenido: |
Introduction -- Fundamentals of Gas Phase Transport on Nanostructured Materials -- Modeling Thin Film Growth on Nanostructured Materials -- Advanced Concepts. |
| En línea: |
https://link-springer-com.biblioproxy.umanizales.edu.co/referencework/10.1007/97 [...] |
| Link: |
https://biblioteca.umanizales.edu.co/ils/opac_css/index.php?lvl=notice_display&i |
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