Growth and Transport in Nanostructured Materials / Yanguas-Gil, Angel  

Público ISBD Ningún comentario para este registro. Título : Growth and Transport in Nanostructured Materials : Reactive Transport in PVD, CVD, and ALD Tipo de documento: documento electrónico Autores: Yanguas-Gil, Angel, Mención de edición: 1 ed. Editorial: [s.l.] : Springer Fecha de publicación: 2017 Número de páginas: XI, 128 p. 57 ilustraciones, 20 ilustraciones en color. ISBN/ISSN/DL: 978-3-319-24672-7 Nota general: Libro disponible en la plataforma SpringerLink. Descarga y lectura en formatos PDF, HTML y ePub. Descarga completa o por capítulos. Idioma : Inglés (eng) Palabras clave: Superficie e interfaz y película delgada  Nanoquímica  Almacenamiento de energía mecánica y térmica  Superficies (Tecnología)  Peliculas delgadas  Superficies (Física)  Almacen de energia  Semiconductor Clasificación: 620.44 Resumen: Este libro abordará la aplicación de métodos de película delgada en fase gaseosa, incluidas técnicas como evaporación, pulverización catódica, CVD y ALD para la síntesis de materiales en materiales nanoestructurados y de alta relación de aspecto y área superficial alta. Hemos optado por presentar estos temas y los diferentes campos de aplicación desde una perspectiva cronológica: comenzamos con los primeros conceptos de cobertura de pasos y más tarde de conformidad en la fabricación de semiconductores, y cómo más adelante el rango de aplicación se diversificó para incluir otros como el almacenamiento de energía. , catálisis y, más ampliamente, síntesis de nanomateriales. El libro describirá las descripciones balísticas y continuas del transporte de gas en materiales nanoestructurados y luego pasará a incorporar el impacto de la interacción precursor-superficie. Finalmente concluiremos abordando los temas de la evolución de la forma de las características y la conexión entre las escalas nano y de reactor y presentaremos brevemente diferentes algoritmos avanzados que pueden usarse para calcular de manera efectiva el transporte de partículas, en algunos casos tomando prestado de otras disciplinas como la transferencia de calor radiativo. El libro reúne en un solo lugar información dispersa a lo largo de treinta años de investigación científica, incluidos los resultados más recientes en el campo de la Deposición de Capas Atómicas. Además de una descripción matemática de los fundamentos del crecimiento de películas delgadas en materiales nanoestructurados, incluye expresiones analíticas y gráficos que pueden usarse para predecir el crecimiento utilizando métodos de síntesis en fase gaseosa en una serie de aproximaciones ideales. El enfoque en los aspectos fundamentales sobre procesos particulares ampliará el atractivo y la vida útil de este libro. El lector de este libro obtendrá una comprensión profunda del recubrimiento de materiales nanoestructurados y de alta superficie utilizando métodos de deposición de película delgada en fase gaseosa, incluidas las limitaciones de cada técnica. Aquellos que vengan del lado teórico obtendrán el conocimiento necesario para modelar el proceso de crecimiento, mientras que aquellos lectores más interesados ​​en el desarrollo del proceso obtendrán la comprensión teórica que será útil para la optimización del proceso. Nota de contenido: Introduction -- Fundamentals of Gas Phase Transport on Nanostructured Materials -- Modeling Thin Film Growth on Nanostructured Materials -- Advanced Concepts. Tipo de medio : Computadora Summary : This book will address the application of gas phase thin film methods, including techniques such as evaporation, sputtering, CVD, and ALD to the synthesis of materials on nanostructured and high aspect-ratio high surface area materials. We have chosen to introduce these topics and the different application fields from a chronological perspective: we start with the early concepts of step coverage and later conformality in semiconductor manufacturing, and how later on the range of application branched out to include others such as energy storage, catalysis, and more broadly nanomaterials synthesis.   The book will describe the ballistic and continuum descriptions of gas transport on nanostructured materials and then will move on to incorporate the impact of precursor-surface interaction. We will finally conclude approaching the subjects of feature shape evolution and the connection between nano and reactor scales and will briefly present different advanced algorithms that can beused to effectively compute particle transport, in some cases borrowing from other disciplines such as radiative heat transfer. The book gathers in a single place information scattered over thirty years of scientific research, including the most recent results in the field of Atomic Layer Deposition. Besides a mathematical description of the fundamentals of thin film growth in nanostructured materials, it includes analytic expressions and plots that can be used to predict the growth using gas phase synthesis methods in a number of ideal approximations. The focus on the fundamental aspects over particular processes will broaden the appeal and the shelf lifetime of this book. The reader of this book will gain a thorough understanding on the coating of high surface area and nanostructured materials using gas phase thin film deposition methods, including the limitations of each technique. Those coming from the theoretical side will gain the knowledge required to model the growth process, while those readers more interested in the process development will gain the theoretical understanding will be useful for process optimization. Enlace de acceso : https://link-springer-com.biblioproxy.umanizales.edu.co/referencework/10.1007/97 [...] Growth and Transport in Nanostructured Materials : Reactive Transport in PVD, CVD, and ALD [documento electrónico] / Yanguas-Gil, Angel,  . -  1 ed.  . - [s.l.] : Springer, 2017 . - XI, 128 p. 57 ilustraciones, 20 ilustraciones en color. ISBN : 978-3-319-24672-7 Libro disponible en la plataforma SpringerLink. Descarga y lectura en formatos PDF, HTML y ePub. Descarga completa o por capítulos. Idioma : Inglés (eng) Palabras clave: Superficie e interfaz y película delgada  Nanoquímica  Almacenamiento de energía mecánica y térmica  Superficies (Tecnología)  Peliculas delgadas  Superficies (Física)  Almacen de energia  Semiconductor Clasificación: 620.44 Resumen: Este libro abordará la aplicación de métodos de película delgada en fase gaseosa, incluidas técnicas como evaporación, pulverización catódica, CVD y ALD para la síntesis de materiales en materiales nanoestructurados y de alta relación de aspecto y área superficial alta. Hemos optado por presentar estos temas y los diferentes campos de aplicación desde una perspectiva cronológica: comenzamos con los primeros conceptos de cobertura de pasos y más tarde de conformidad en la fabricación de semiconductores, y cómo más adelante el rango de aplicación se diversificó para incluir otros como el almacenamiento de energía. , catálisis y, más ampliamente, síntesis de nanomateriales. El libro describirá las descripciones balísticas y continuas del transporte de gas en materiales nanoestructurados y luego pasará a incorporar el impacto de la interacción precursor-superficie. Finalmente concluiremos abordando los temas de la evolución de la forma de las características y la conexión entre las escalas nano y de reactor y presentaremos brevemente diferentes algoritmos avanzados que pueden usarse para calcular de manera efectiva el transporte de partículas, en algunos casos tomando prestado de otras disciplinas como la transferencia de calor radiativo. El libro reúne en un solo lugar información dispersa a lo largo de treinta años de investigación científica, incluidos los resultados más recientes en el campo de la Deposición de Capas Atómicas. Además de una descripción matemática de los fundamentos del crecimiento de películas delgadas en materiales nanoestructurados, incluye expresiones analíticas y gráficos que pueden usarse para predecir el crecimiento utilizando métodos de síntesis en fase gaseosa en una serie de aproximaciones ideales. El enfoque en los aspectos fundamentales sobre procesos particulares ampliará el atractivo y la vida útil de este libro. El lector de este libro obtendrá una comprensión profunda del recubrimiento de materiales nanoestructurados y de alta superficie utilizando métodos de deposición de película delgada en fase gaseosa, incluidas las limitaciones de cada técnica. Aquellos que vengan del lado teórico obtendrán el conocimiento necesario para modelar el proceso de crecimiento, mientras que aquellos lectores más interesados ​​en el desarrollo del proceso obtendrán la comprensión teórica que será útil para la optimización del proceso. Nota de contenido: Introduction -- Fundamentals of Gas Phase Transport on Nanostructured Materials -- Modeling Thin Film Growth on Nanostructured Materials -- Advanced Concepts. Tipo de medio : Computadora Summary : This book will address the application of gas phase thin film methods, including techniques such as evaporation, sputtering, CVD, and ALD to the synthesis of materials on nanostructured and high aspect-ratio high surface area materials. We have chosen to introduce these topics and the different application fields from a chronological perspective: we start with the early concepts of step coverage and later conformality in semiconductor manufacturing, and how later on the range of application branched out to include others such as energy storage, catalysis, and more broadly nanomaterials synthesis.   The book will describe the ballistic and continuum descriptions of gas transport on nanostructured materials and then will move on to incorporate the impact of precursor-surface interaction. We will finally conclude approaching the subjects of feature shape evolution and the connection between nano and reactor scales and will briefly present different advanced algorithms that can beused to effectively compute particle transport, in some cases borrowing from other disciplines such as radiative heat transfer. The book gathers in a single place information scattered over thirty years of scientific research, including the most recent results in the field of Atomic Layer Deposition. Besides a mathematical description of the fundamentals of thin film growth in nanostructured materials, it includes analytic expressions and plots that can be used to predict the growth using gas phase synthesis methods in a number of ideal approximations. The focus on the fundamental aspects over particular processes will broaden the appeal and the shelf lifetime of this book. The reader of this book will gain a thorough understanding on the coating of high surface area and nanostructured materials using gas phase thin film deposition methods, including the limitations of each technique. Those coming from the theoretical side will gain the knowledge required to model the growth process, while those readers more interested in the process development will gain the theoretical understanding will be useful for process optimization. Enlace de acceso : https://link-springer-com.biblioproxy.umanizales.edu.co/referencework/10.1007/97 [...]

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