| Título : |
Laser Heat-Mode Lithography : Principle and Methods |
| Tipo de documento: |
documento electrónico |
| Autores: |
Wei, Jingsong, Autor |
| Mención de edición: |
1 ed. |
| Editorial: |
Singapore [Malasya] : Springer |
| Fecha de publicación: |
2019 |
| Número de páginas: |
XIII, 208 p. 182 ilustraciones, 160 ilustraciones en color. |
| ISBN/ISSN/DL: |
978-981-1509438-- |
| Nota general: |
Libro disponible en la plataforma SpringerLink. Descarga y lectura en formatos PDF, HTML y ePub. Descarga completa o por capítulos. |
| Palabras clave: |
Superficies (Física) Láseres Telecomunicación Materiales ópticos Superficie e interfaz y película delgada Láser Microondas Ingeniería de RF y Comunicaciones Ópticas |
| Índice Dewey: |
530.417 |
| Resumen: |
Este libro proporciona una descripción y un análisis sistemáticos de la litografía láser en modo calor, abordando los principios básicos, el sistema de litografía, la manipulación del tamaño de las características, la litografía en escala de grises, las películas delgadas resistentes y la transferencia de patrones, al mismo tiempo que presenta resultados y aplicaciones experimentales típicos. Introduce la litografía láser en modo calor, donde las películas delgadas resistentes son esencialmente una respuesta optotérmica al rayo láser con longitud de onda variable y no son sensibles a la longitud de onda del láser. Las técnicas de litografía láser en modo calor simplifican enormemente los procedimientos de producción porque no requieren ni una fuente de luz particular ni un entorno particular; Además, no se requieren pasos previos ni posteriores al horneado para los fotoprotectores orgánicos. El tamaño de la característica del patrón puede ser mayor o menor que el punto láser ajustando la estrategia de escritura. El tamaño de la característica litográfica también se puede ajustar arbitrariamente desde nanoescala a micrómetro sin cambiar el tamaño del punto láser. Por último, la rugosidad del borde de la línea se puede controlar a un valor muy bajo porque el proceso de grabado es un proceso de ruptura de enlaces entre átomos. El libro ofrece una guía de referencia invaluable para todos los estudiantes universitarios avanzados, estudiantes de posgrado, investigadores e ingenieros que trabajan en los campos de la nanofabricación, técnicas y sistemas de litografía, materiales de cambio de fase, etc. |
| Nota de contenido: |
Current status of lithography -- Principles of laser heat-mode lithography and thermal diffusion -- Laser heat-mode maskless lithography system -- Manipulation of thermal diffusion channels -- Laser heat-mode nanolithography on phase-change thin films -- Direct laser heat-mode nanopatterning on metallo-organic compound thin films -- Laser heat-mode patterning of transparent thin films -- Laser heat-mode grayscale image lithography -- Patterns transfer processes and applications. |
| En línea: |
https://link-springer-com.biblioproxy.umanizales.edu.co/referencework/10.1007/97 [...] |
| Link: |
https://biblioteca.umanizales.edu.co/ils/opac_css/index.php?lvl=notice_display&i |
Laser Heat-Mode Lithography : Principle and Methods [documento electrónico] / Wei, Jingsong, Autor . - 1 ed. . - Singapore [Malasya] : Springer, 2019 . - XIII, 208 p. 182 ilustraciones, 160 ilustraciones en color. ISBN : 978-981-1509438-- Libro disponible en la plataforma SpringerLink. Descarga y lectura en formatos PDF, HTML y ePub. Descarga completa o por capítulos.
| Palabras clave: |
Superficies (Física) Láseres Telecomunicación Materiales ópticos Superficie e interfaz y película delgada Láser Microondas Ingeniería de RF y Comunicaciones Ópticas |
| Índice Dewey: |
530.417 |
| Resumen: |
Este libro proporciona una descripción y un análisis sistemáticos de la litografía láser en modo calor, abordando los principios básicos, el sistema de litografía, la manipulación del tamaño de las características, la litografía en escala de grises, las películas delgadas resistentes y la transferencia de patrones, al mismo tiempo que presenta resultados y aplicaciones experimentales típicos. Introduce la litografía láser en modo calor, donde las películas delgadas resistentes son esencialmente una respuesta optotérmica al rayo láser con longitud de onda variable y no son sensibles a la longitud de onda del láser. Las técnicas de litografía láser en modo calor simplifican enormemente los procedimientos de producción porque no requieren ni una fuente de luz particular ni un entorno particular; Además, no se requieren pasos previos ni posteriores al horneado para los fotoprotectores orgánicos. El tamaño de la característica del patrón puede ser mayor o menor que el punto láser ajustando la estrategia de escritura. El tamaño de la característica litográfica también se puede ajustar arbitrariamente desde nanoescala a micrómetro sin cambiar el tamaño del punto láser. Por último, la rugosidad del borde de la línea se puede controlar a un valor muy bajo porque el proceso de grabado es un proceso de ruptura de enlaces entre átomos. El libro ofrece una guía de referencia invaluable para todos los estudiantes universitarios avanzados, estudiantes de posgrado, investigadores e ingenieros que trabajan en los campos de la nanofabricación, técnicas y sistemas de litografía, materiales de cambio de fase, etc. |
| Nota de contenido: |
Current status of lithography -- Principles of laser heat-mode lithography and thermal diffusion -- Laser heat-mode maskless lithography system -- Manipulation of thermal diffusion channels -- Laser heat-mode nanolithography on phase-change thin films -- Direct laser heat-mode nanopatterning on metallo-organic compound thin films -- Laser heat-mode patterning of transparent thin films -- Laser heat-mode grayscale image lithography -- Patterns transfer processes and applications. |
| En línea: |
https://link-springer-com.biblioproxy.umanizales.edu.co/referencework/10.1007/97 [...] |
| Link: |
https://biblioteca.umanizales.edu.co/ils/opac_css/index.php?lvl=notice_display&i |
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